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印制電路板PCB廢水處理方法

作者: 編輯: 小清 來(lái)源: 發(fā)布日期: 2019.12.01
信息摘要:
印制電路板(PCB)廢水處理方法1.脫模顯影廢液。脫模顯影廢液主要為顯影、濕膜顯影工序產(chǎn)生的含油大量油墨的高濃度COD廢水。有兩種處理方法:…

印制電路板(PCB)廢水處理方法

1.脫模顯影廢液。脫模顯影廢液主要為顯影、濕膜顯影工序產(chǎn)生的含油大量油墨的高濃度COD廢水。有兩種處理方法:一種為酸析法,利用分流出來(lái)的廢酸液摻混進(jìn)行攪拌,在酸性條件下(pH2.5~3.0),大多有機(jī)污染物可以析出:另一種催化法,將反應(yīng)池中的廢水pH值調(diào)至2.5,向池中分別投加FeSO4催化劑、H2O2強(qiáng)氧化劑,反應(yīng)一定時(shí)間后,消化分解廢液中的有機(jī)物,清液自動(dòng)流入有機(jī)廢水調(diào)節(jié)池進(jìn)行后續(xù)處理。

2.含氰廢水。此類廢水主要來(lái)自沉金工序的清洗過程。廢水主要含有COD及重金屬與氰形成的絡(luò)合物(Cu2+、Au2+、CN-)等污染物。此類廢水必須進(jìn)行破氰處理,可采用堿性氯化法,在堿性條件下,分批投入NaClO氧化劑,使絡(luò)合物中的氰離子釋放出來(lái),經(jīng)過兩級(jí)反應(yīng),使CN-離子生成穩(wěn)定無(wú)毒的CO2和N2,從而達(dá)到去除CN-的目的。主要反應(yīng)式如下:

CN-+ClO-+H2O=CNCl↑+2OH-

CNCl+2OH-=CNO-+Cl-+H2O

2CNO-+3ClO-+H2O=2CO2↑+N2↑+3Cl-+2OH-

式①②為一級(jí)氧化反應(yīng),式③為二級(jí)氧化反應(yīng)。式①產(chǎn)物氯化氫CNCl為易揮發(fā)的有毒物質(zhì),且在酸性條件下不穩(wěn)定。式②反應(yīng)需控制pH值為11.0~12.0,ORP=350mV,反應(yīng)時(shí)間一般在15min內(nèi)。式③反應(yīng)需控制pH值為7.0~7.5,ORP=650mV,反應(yīng)時(shí)間為30min。

3.在堿性條件下采用Na2S沉淀工藝。比較CuS、Cu(OH)2的溶度積,lgKsp(CuS)=35.2,lgKsp(Cu(OH)2)=19.66。可見金屬硫化物的穩(wěn)定常數(shù)大,易于沉淀,除銅效率高,且適用的值范圍大(pH值為9.5~11.0)。由于金屬硫化物在酸性條件下不穩(wěn)定,容易產(chǎn)生有毒氣體H2S,因此反應(yīng)不能在酸性條件下進(jìn)行。含氰廢水處理后排入綜合池。

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青島水清木華環(huán)境工程有限公司成立于2005年。自成立以來(lái),公司堅(jiān)持以技術(shù)為核心,致力于制造業(yè)所產(chǎn)生的工業(yè)廢水的濃縮減量化處理和零排放,及相關(guān)環(huán)保設(shè)備及藥劑的開發(fā)與制造,為客戶提供技術(shù)咨詢、方案設(shè)計(jì)、工程施工和運(yùn)營(yíng)管理等服務(wù)。擁有30余項(xiàng)發(fā)明專利和著作權(quán)認(rèn)證證書,被評(píng)為“國(guó)家高新技術(shù)企業(yè)”和“專精特新企業(yè)”。

我們以“工業(yè)廢水濃縮減量、蒸發(fā)結(jié)晶和零排放”為主要方向;以工程設(shè)備化為目標(biāo)進(jìn)行逐步改進(jìn)、完善;以設(shè)備制作、藥劑研發(fā)與生產(chǎn)等滿足客戶需求為增效。公司自主研發(fā)的低溫蒸發(fā)器突破了“零排放”蒸發(fā)結(jié)晶的瓶頸,為企業(yè)降低了高難廢水的處理成本,同時(shí)對(duì)有價(jià)值的濃縮母液實(shí)現(xiàn)了回收再利用。目前在金剛線生產(chǎn)、磁性材料生產(chǎn)、精密金屬制造等行業(yè)均應(yīng)用廣泛,以其良好的處理效果和運(yùn)行的穩(wěn)定性以及低能耗得到了廣大客戶的認(rèn)可和好評(píng)。

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